欧州大手銀のアナリストは、中国が今後１０年以内に、オランダの半導体製造装置大手ＡＳＭＬ<ASML>が誇る最先端の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置に対抗し得る技術を確立する可能性は低いとの分析を明らかにした。米国主導の輸出規制が影を落とし、最先端領域におけるＡＳＭＬの独占的優位は当面揺らがないとの見解を示している。
　
　アナリスト率いる調査チームは、特許動向などの詳細な分析に基づき、現在の中国におけるＥＵＶ技術の成熟度を「ＡＳＭＬが２００４年ごろに位置していた段階と同等」と指摘。同社がＥＵＶ装置の本格的な量産を開始する約１５年前のレベルに相当するという。

　中国政府は半導体産業の完全な自給自足を目指し、莫大な国家資金を投入して国産化を急いでいる。しかし、米国による先端技術の輸出規制が最大の障壁となっている。
　ＡＳＭＬはエヌビディア<NVDA>向けの最先端半導体の生産などに不可欠とされるＥＵＶ装置を世界で唯一供給できる企業だが、規制により中国への輸出は厳しく禁止されている。

　同アナリストは、仮に中国国産の露光装置が登場したとしても、歩留まりや処理能力などの性能面でＡＳＭＬ製との隔たりは大きく、国外市場で広く普及する可能性は極めて低いと結論付けた。

　一方、ＥＵＶより１世代前に当たる液浸型深紫外線（ＤＵＶ）露光装置については、中国が今後２－５年以内に量産体制を整える可能性があるとの予測も示した。

　１台当たり２億ドルを超える最先端ＥＵＶに対し、液浸ＤＵＶの販売価格は約９０００万ドルとされる。汎用半導体の製造領域では国産化が進むものの、最先端領域においては少なくとも今後１０年間に渡りＡＳＭＬの優位性が維持される見通しだという。

株探ニュース