（NY時間10:40）（日本時間23:40）
ＡＳＭＬ<ASML>　1635.72（-121.37　-6.91%）

　半導体露光装置のオランダのＡＳＭＬ<ASML>が下落。中国の政府系企業が液浸型深紫外線（ＤＵＶ）露光装置の製造を開始したと伝わった。インフォメーションが関係者の話として報じた。この中国企業は別の政府系スタートアップである上海宇量昇科技などの液浸型ＤＵＶ装置開発チームを結集した。

　報道によると、このＤＵＶ装置が中国メーカーで採用され、大量生産に用いられれば、ＡＳＭＬの製品に取って代わることが可能になるという。上海に本社を置くこの企業は、今年約５台のＤＵＶ装置を製造し、２０２７年には約２０台を製造する計画。

　これらのＤＵＶ装置は今年、中芯国際集成電路製造（ＳＭＩＣ）や華虹宏力半導体のほか、メモリー大手の長?存儲技術（ＣＸＭＴ）など中国国内の半導体メーカーに納入される。

【企業概要】
　半導体メーカーが半導体製造プロセスを開発・最適化・制御するための、リソグラフィに対する包括的なアプローチによるハードウェア・ソフトウェアなどの製品とサービスを提供する。システムとプロセス制御ソフトウェアは、自動制御ループによりリソグラフィプロセスの最適な動作を維持し、歩留まりを最大化することが可能。

MINKABU PRESS編集部　野沢卓美

株探ニュース