マイクロン・テクノロジー<MU>が上昇。日本政府から２０００億円の支援を受け、同社の広島工場で次世代ＤＲＡＭの生産を目指すと伝わった。ブルームバーグが関係者の話として伝えた。

　今回の投資でマイクロンは広島工場にオランダのＡＳＭＬ<ASML>の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置や東京エレクトロン＜8035＞の関連装置を導入し、ＤＲＡＭ量産体制を構築する。

　マイクロンは、日本政府からの緊密な支援を得て１ガンマ世代の技術に向こう数年間で最大５０００億円を投資する計画を発表した。１ガンマの次世代ＤＲＡＭは広島工場で生産する計画。

　岸田首相は会見で「マイクロンの取り組みを日本政府として支援する。日米半導体協力の好事例だ」と述べた。

（NY時間09:51）
マイクロン<MU>　68.02（+3.10　+4.78%）

MINKABU PRESS編集部　野沢卓美